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林总总但凡是和电子相关的，必定和半导体，也就是芯片有关。

    如今看上去国内和国外的芯片水平差距不大，那是因为如今这个时代，还处在电子产品初级阶段，芯片在100nm级别，技术含量不需要多高。

    我国光刻机是在65年才开始研制出65型接触式光刻机，在七十年代，夏国科学院才开始研制计算机辅助光刻掩膜工艺。

    到了1980年清北大学才研制出了第四代分布式投影光刻机，那个时候的光刻精度在3微米，已经接近了国际主流水平。

    而到了82年，所研制出的光刻机和世界最先进技术的差距已经不到4年，不过这个时候的光刻机说实话并不是多么高科技的东西，很多半导体公司都能自己设计工装和工具，因为这个时代，光刻机芯片还处在微米的时代。

    不过也在这个阶段，米国和岛国的光刻机却在不断发展，尼康凭借着相机时代的积累成为了当时的巨头。

    而我国随着改革的逐步深入，与米国关系逐步深入，大量先进的技术装备已经可以直接买到，所以光刻机研究陷入了停滞，因为研究投入的产品性价比远低于从国外买到的光刻机。

    整个九十年代我国光刻机的水准一直停留在193nm的水准，没有丝毫进步。

    这个状况不光是国内如此，全世界都是如此，全都卡死在了193nm这个区间。

    但是从去年，也就是90年开始，全球世界各大强国都开始投入巨资以及集中他们国家的全国精英人士投入到下一代芯片制造机器，也就是euv光刻机的研究当中。

    其中米国四十多家高科技公司在能源部牵头下，一起投入到了这场事关下个世纪命运的研究当中。

    岛国因为在这个时代是芯片领域无可置疑的老大哥，自傲之下没有花太多资金人力进行研究。

    反倒是高丽以及弯弯在这场全球研究当中，投入重金以及庞大的人力物力参与进来。

    而除了米国、高丽、弯弯之外，欧罗巴众多国家也纷纷参与到了这场研究当中。

    这场对于euv光刻机的研究，最终耗资千亿，参与人数全部都是各国精英。

    (吗王好)　　因此步入到二十一世纪之后，芯片产业进入了一场洗牌以及飞跃式发展。

    微米时代彻底过去，纳米时代到来。

    而且芯片不断精细化，从nm，每一个跨越都是天堑一般衣。

    在原时空，夏国完全错过了这场关于电子产业核心生死的芯片研究当中，以至于一步落后步步落后，直接在三十年后成为扼住喉咙的一道关卡。

    所以，禹城如今听到张老爷子给他一个机会，能让他的建议直达天听。

    毫无疑问，这个机会极有可能彻底改变国内的芯片命运。

    一想到这，禹城的内心瞬间滚烫了起来。

    （还有一章，很晚更，别等）.
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