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正文 第412章 光损耗破0.8(第1页/共5页)

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    光子芯片研发中心的测试台前,第四轮波导样片的数据正在一点一点往外跳。

    

    屏幕左侧叠着三条旧曲线,第一条0.95dB/C,第二条0.88dB/C,第三条0.82dB/C,三条线的终点都被沈明轩用红笔在打印稿上圈过。

    

    实验室里只有设备运行的低响。

    

    两个工程师站在他身后,一个手里拿着记录板,一个盯着实时数据窗口。

    

    沈明轩手里捏着一支红笔,笔帽被他扣在尾端,笔尖悬在打印稿上方。

    

    这一轮从上午开始跑,样片编号是G-4-17,工艺记录里多了一行备注,梯度刻蚀窗口二次修正。

    

    年轻工程师看了一眼前三轮数据,声:“沈老师,前三轮趋势是往下的,0.95,0.88,0.82。”

    

    沈明轩没有抬头。

    

    屏幕上的第四条曲线开始成型,前半段比第三条更低一点,中段有一段抬头,又慢慢下去。

    

    沈明轩把鼠标移到曲线尾端,等最后一个数据点刷新出来。

    

    第四轮数据全部跑完。

    

    屏幕上四条曲线完整叠在一起,从上到下分得清楚,每一条都比前一条低。

    

    沈明轩拿起红笔,在打印稿第一条曲线旁画了一个箭头。

    

    1.1→0.95,刻蚀角度容差过大,高温测试时额外散射损耗明显。

    

    第二个箭头。

    

    0.95→0.88,梯度刻蚀后,侧粗糙度从12n降到8n。

    

    第三个箭头。

    

    0.88→0.82,刻蚀时间窗口继续收窄,端面损耗没有继续放大。

    

    第四个箭头画到一半,他的笔停住。

    

    曲线终点旁边,测试条件一行一行列着,1550n,室温,TE模式,样片编号G-4-17,重复测试三次。

    

    最终读数,0.8dB/C。
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